En este trabajo se va a realizar un estudio sobre el comportamiento óptico y eléctrico que ofrecen las películas delgadas de nitruro de cobre dopadas con plata o con oro sobre substratos de vidrio y silicio. La técnica de depósito que será utilizada para el crecimiento de las películas delgadas será la de codepósito por pulverización catódica reactiva con magnetrón DC. El estudio óptico y eléctrico se realizarán por medio de una caracterización óptica y eléctrica con ayuda de la espectrometría Uv-vis y la técnica de Van der Pauw respectivamente, la caracterización óptica del Uv-Vis será complementada a la región de rayos x suaves y ultravioleta extremo haciendo uso de la espectroscopía de pérdida de energía electrónica. Por otro lado, se realizará la caracterización de las películas delgadas mediante las técnicas espectroscopía de electrones Auger (AES) y la espectroscopía de electrones fotoemitidos (XPS) con el fin de conocer la estequiometría de las películas formadas; difracción de rayos X (XRD) para obtener las fases cristalográficas presentes en las películas delgadas.

La contribución de este proyecto radica en aclarar la duda de que si la adición de un átomo extra ocurre en el centro de la estructura del nitruro de cobre. Como se mencionó anteriormente muchos investigadores intuyen que así sucede, por que notan un aumento en la constante de red del nitruro de cobre, sin tener una evidencia química de la cantidad de átomos que están introduciendo a la estructura del nitruro de cobre. En esta propuesta deseamos introducir átomos en la estructura del nitruro de cobre, pero la confirmación de la cantidad de átomos en la estructura la vamos a hacer por espectroscopía de electrones fotoemitidos, hecho que no ha sido reportado en la literatura. Por tanto en esta propuesta se tendrá información de la cantidad de átomos adicionados relativos al cobre, que van a hacer parte de la estructura del nitruro de cobre.